很多產品在出廠前都要經過液體拋光蠟，以顯示產品表面的平、滑、亮、光的效果，提高產品的投放價值。所以，液體拋光蠟作為現在加工行業最廣泛應用的材料之一，在拋光過程中質量標準有哪些？其濃度值對工件有何影響？

    下面，恒生磨料為您介紹“液體拋光蠟的質量要求及液體拋光蠟濃度值對工件的影響”：

    使用液體拋光蠟的工具：海綿盤、納米毛巾、拋光機 拋光輪等

　　材料：液體拋光蠟（粗、中、細）

　　拋光作用：解決漆面氧化層、條紋、污染、褪色等影響漆面外觀的深層問題。

　　拋光原則：由重到輕，重力研磨，輕力提光。

　　液體拋光蠟的拋光三環節：研磨、拋光、還原。通過表面預處理清除漆面上的污物，消除嚴重氧化及微劃痕或減輕表面缺陷，使漆面上無氧化層、條紋、污染、褪色等缺陷。

　　在我們了解液體拋光蠟的質量要求外，液體拋光蠟的濃度值對工件粗糙度有何影響呢？

　　液體拋光蠟的濃度值直接關系到拋光機上工件的加工效果，具體來說是影響工件粗糙度的值。液體拋光蠟的濃度不宜過濃或過稀，它們之間有一個最佳濃度值，只有在這個最佳的范圍內才能保證工件表面粗糙度的良好性。液體拋光蠟過濃的話會導致研磨時，工件表面的磨削力變大，會導致表面有劃痕，不光滑，同時粗糙度變大。當液體拋光蠟過稀時，工件表面磨削力太小，去除表面很慢也起不到去除斑點、劃痕的效果，粗糙度也人變大。因此只有液體拋光蠟濃度適當時這些問題才能徹底解決。

　　假設拋光輪轉速為6000 r/min，液體拋光蠟流量為0.6L/min。隨著CeO2濃度的增大，氮化硅陶瓷加工表面Ra值變小，當液體拋光蠟濃度超過最佳濃度值后，Ra值增大。其原因是: 液體拋光蠟濃度較低時，液體拋光蠟中CeO2微粒不足，即沒有足夠的CeO2微粒參與化學反應，從而使氮化硅材料的去除率較低，表面粗糙度差；當液體拋光蠟濃度增大時，化學機械拋光過程中參與化學反應的原料供應增加，加大了有效機械研磨作用，使局部溫度升高，化學反應加速，并且生成的軟質層被有效去除，從而實現了較高的去除率和加工表面質量; 液體拋光蠟的濃度進一步增大時，化學作用得到進一步的增強，但是機械作用相對不足，導致表面粗糙度值增大。